トップページ熱流体事例 > 機能別及び検証事例半導体・燃料電池事例CVD解析例

CVD解析例

炉内には3個の加熱コイルによって外部から加熱される石英管が設けられており、それぞれのコイルの発熱量はチューブの中に位置した熱電対によって制御されます。熱電対の測定結果から、熱損失を補うために上部755C、中央770C、下部765Cなる分布を持つものとして設定します。石英チューブ内には71段のシリコン・ウエハー(直径150mm、間隔8mm)がバッチ形式で設置され、3個のクォーツバッフルが、ウエハーから低温の下部フランジへ放熱するのを防ぎます。 ウエハーバッチの中心では一定な温度勾配を持っているが、surface to surface輻射モデルにて半透明な輻射率を考慮したシミュレーションにおいて同様な結果が得られた。

Jipelec-type CVD reactorにおけるシランからシリコンへのdepositionの解析例

Multi_Blockの機能を用いたCVDの解析例

CVDの解析結果と実験結果の比較例

CVD解析例

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